中频磁控镀膜机

中频磁控镀膜机

该系列设备主要集中频磁控溅射、脉冲偏压结合等技术为一体,实行全自动化控制。此设备广泛应用于表带、表壳、手机壳、五金、餐具等工件上镀制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各种装饰膜层。

参数说明:

型号 HY-1090 HY-1110 HY-1312 HY-1612
真空室尺寸 Φ 1000Χ900mm Φ 1100Χ1000mm Φ 1200Χ1200 mm Φ 1600Χ1200 mm

镀膜方式及主要配置

柱靶1对 柱靶1对 柱靶1对 柱靶2对

镀膜种类

金属膜,介质膜,化合物膜,反应膜,多功能层次膜

电源

电弧电源,真空磁控电源,中频磁控电源,脉冲偏压电源,离子源电源

真空室结构

立式前(单)开门,后置抽气系统,双层水冷

真空系统组成

分子泵(扩散泵)+罗茨泵+机械泵

极限真空

6.0Χ10-4

抽气时间

大气抽至3Χ10-3Pa≤15min

工件运动方式

公 /自转,变频调速

工件烘烤温度

常温到 350oC可调可控

控制方式

全自动化控制 PC+PLC/PC+HMI

备注

该设备可按客户产品及特殊工艺要求订做

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